As semiconductor scaling has continued, increasingly rigorous requirements for precision and uniformity in chip fabrication have propelled the first comprehensive redesign of the silicon etch chamber in over a decade. The resulting Applied Centris Sym3 system delivers world-class cross-wafer uniformity with unprecedented within-chip feature control in critical etch applications for high-volume manufacturing at the 1x/10nm node and beyond.
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La CNS va devoir publier le nom des personnes sanctionnées conformément à l'ordonnance du 1er décembre 2016 transposant la 4e directive sur la lutte contre le blanchiment des capitaux et le financement du terrorisme. Les manquements portaient en 2017 surtout sur l'absence de protocole interne (23 %) puis d'identification et de vérification de l'identité du client (20 %), puis du manque de recueil d'informations et de vigilance (17 %). La formation obligatoire n'est parfois pas faite (16 % des infractions)7.
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