As semiconductor scaling has continued, increasingly rigorous requirements for precision and uniformity in chip fabrication have propelled the first comprehensive redesign of the silicon etch chamber in over a decade. The resulting Applied Centris Sym3 system delivers world-class cross-wafer uniformity with unprecedented within-chip feature control in critical etch applications for high-volume manufacturing at the 1x/10nm node and beyond.
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At earlier technology nodes, when features were larger, a greater range in variation in etch depth, line or space width, or profile angle could be accommodated without affecting device performance. Similarly, occasional particles remaining on feature surfaces did not jeopardize device reliability. At the 1x/10nm node, however, the slightest differences in etch depth, line or space width, or profile angle can be fatal flaws in chip manufacture. And defect-free surfaces are equally essential.
« Cette première collaboration avec lg2 était l’occasion de faire évoluer nos messages pour les recentrer vers cet accompagnement. Ce qu’on veut que les gens retiennent, c’est que DuProprio offre les meilleurs conseils, par les bons professionnels, quand ils en ont besoin. C’est ce qui fait que l’expérience est simple et qu’ils obtiennent du succès avec nous. Et ce n’est pas nous qui le disons, ce sont nos nombreux clients que nous avons interrogés », mentionne Frédéric Auger, directeur principal, Ventes et Marketing chez DuProprio.
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To achieve the tight degree of within-chip etch control needed for such precise patterning, the new system creates a dramatically cleaner chamber environment that significantly accelerates the removal of etch byproducts—a major cause of variation. Both larger chamber volume and higher gas flows minimize the amount of byproduct that redeposits on the wafer, where it can pinch off narrow spaces and create etch depth variations, cause unacceptable variations between densely packed and isolated features, or exacerbate line edge roughness. Preventing byproduct accumulation also reduces particle formation and resultant defect creation.


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L'ÎLE-DES-SŒURS, QC, Dec. 6, 2018 /CNW Telbec/ - The Greater Montréal Real Estate Board (GMREB) has just released its most recent residential real estate market statistics for the Montréal Census Metropolitan Area (CMA), based on the real estate brokers' Centris provincial database. In total, 3,630 residential sales were concluded in November 2018, a 6 per cent increase compared to the same month last year. It also represents a new sales record for a month of November and the 45th consecutive increase in transactions. Click here to watch the November 2018 statistics video. 
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