To achieve the tight degree of within-chip etch control needed for such precise patterning, the new system creates a dramatically cleaner chamber environment that significantly accelerates the removal of etch byproducts—a major cause of variation. Both larger chamber volume and higher gas flows minimize the amount of byproduct that redeposits on the wafer, where it can pinch off narrow spaces and create etch depth variations, cause unacceptable variations between densely packed and isolated features, or exacerbate line edge roughness. Preventing byproduct accumulation also reduces particle formation and resultant defect creation.
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La CNS va devoir publier le nom des personnes sanctionnées conformément à l'ordonnance du 1er décembre 2016 transposant la 4e directive sur la lutte contre le blanchiment des capitaux et le financement du terrorisme. Les manquements portaient en 2017 surtout sur l'absence de protocole interne (23 %) puis d'identification et de vérification de l'identité du client (20 %), puis du manque de recueil d'informations et de vigilance (17 %). La formation obligatoire n'est parfois pas faite (16 % des infractions)7.

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To achieve the tight degree of within-chip etch control needed for such precise patterning, the new system creates a dramatically cleaner chamber environment that significantly accelerates the removal of etch byproducts—a major cause of variation. Both larger chamber volume and higher gas flows minimize the amount of byproduct that redeposits on the wafer, where it can pinch off narrow spaces and create etch depth variations, cause unacceptable variations between densely packed and isolated features, or exacerbate line edge roughness. Preventing byproduct accumulation also reduces particle formation and resultant defect creation.
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