At earlier technology nodes, when features were larger, a greater range in variation in etch depth, line or space width, or profile angle could be accommodated without affecting device performance. Similarly, occasional particles remaining on feature surfaces did not jeopardize device reliability. At the 1x/10nm node, however, the slightest differences in etch depth, line or space width, or profile angle can be fatal flaws in chip manufacture. And defect-free surfaces are equally essential.
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Outre les effets conjoncturels, les caractéristiques propres d'un bien immobilier ont une influence sur son prix. Celles-ci peuvent être intrinsèques au bien (facilité d'accès et d'aménagement, confort, isolation, exposition, esthétique, vétusté, charges et contraintes, bien occupé ou librement habitable), des éléments sentimentaux (biens de famille). Des phénomènes de rareté peuvent éventuellement être créés par des contraintes administratives de construction8.
REALTOR®, REALTORS® et le logo REALTOR® sont des marques déposées de REALTOR® Canada Inc., une compagnie dont la National Association of REALTORS® et l'Association canadienne de l'immeuble sont propriétaires. Les marques de commerce REALTOR® servent à distinguer les services immobiliers offerts par les courtiers et agents d'immeuble en tant que membres de l'ACI. Les marques d'homologation S.I.A.® /MLS®, Service inter-agences®, et leurs logos respectifs sont la propriété de l'ACI, et ils servent à identifier les services immobiliers que fournissent les courtiers et agents d'immeuble membres de l'ACI.
To achieve the tight degree of within-chip etch control needed for such precise patterning, the new system creates a dramatically cleaner chamber environment that significantly accelerates the removal of etch byproducts—a major cause of variation. Both larger chamber volume and higher gas flows minimize the amount of byproduct that redeposits on the wafer, where it can pinch off narrow spaces and create etch depth variations, cause unacceptable variations between densely packed and isolated features, or exacerbate line edge roughness. Preventing byproduct accumulation also reduces particle formation and resultant defect creation.
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