To achieve the tight degree of within-chip etch control needed for such precise patterning, the new system creates a dramatically cleaner chamber environment that significantly accelerates the removal of etch byproducts—a major cause of variation. Both larger chamber volume and higher gas flows minimize the amount of byproduct that redeposits on the wafer, where it can pinch off narrow spaces and create etch depth variations, cause unacceptable variations between densely packed and isolated features, or exacerbate line edge roughness. Preventing byproduct accumulation also reduces particle formation and resultant defect creation.
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Le patrimoine architectural de Québec comprend l'ensemble des bâtiments de l'Assemblée nationale qui ont été érigés sur la colline Parlementaire à partir de 1877. On y retrouve deux styles architecturaux, soit le style Second Empire pour l'Hôtel du Parlement et l'architecture Beaux-Arts pour les autres édifices. La Citadelle de Québec, construite entre 1820 et 1831, le Château Frontenac, bâti entre 1892 et 1893, et la Terrasse Dufferin font également partie du site patrimonial du Vieux-Québec.
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